Vertex Ventures Japan（VVJ）は、東京大学発のディープテック・スタートアップである株式会社Gaianixx（本社：東京都文京区、代表取締役社長CEO：中尾健人）のシリーズC 1stラウンドに新規投資家として参画しました。本ラウンドの調達額は総額20億円で、これにより同社の累計資金調達額は約38.5億円となります。
本調達は、既存投資家および新規投資家を引受先とする第三者割当増資により実施されました。VVJのほか、新規投資家として三井金属CVC2号ファンド（Mitsui Kinzoku-SBI Material Innovation Fund Ⅱ）、東レインターナショナル、きらぼしキャピタルが参画しました。既存投資家である東京大学エッジキャピタルパートナーズ（UTEC）、JX金属、JICベンチャー・グロース・インベストメンツ（JIC VGI）、アルコニックス、i-nest Capital、SMBCベンチャーキャピタルも参加し、本ラウンドはJIC VGIがリードしました。
半導体の構造的なトレードオフを解消する技術
Gaianixxのコア技術である独自の「多能性®中間膜」は、基板とその上に成長させる薄膜結晶との間の格子不整合を緩和し、異種材料間での高品質な単結晶膜形成を可能にします。これにより、化合物半導体で長年課題とされてきた「コストと性能の構造的な二律背反（トレードオフ）」を解消し得るとしており、次世代センサー、通信（SAW）デバイス、パワー半導体、LED、光通信デバイスなど幅広い産業分野での採用が見込まれています。
シリーズB以降、Gaianixxは技術検証の段階から商用化フェーズへと移行しました。現在、2社において同社材料を用いたデバイス開発への移行（デザインウィン）が完了しているほか、国内外で約40社近い企業から共同開発・評価の引き合いを得ています。
調達資金の使途
調達した資金は、開発拠点である「山梨テクニカルセンター」の本格稼働と独自パイロットラインの運用による大規模なサンプル供給・プロセス検証、北米・欧州・アジア圏へのグローバル事業開発と量産プロセスエンジニア・事業開発・知財戦略の専門人材の採用強化、ならびに知財戦略のさらなる強化に重点的に投資されます。同社は現在12件の特許を権利化（うち11件は中核技術である多能性®中間膜に関する特許）し、国内外で87件を出願中です。
「この度、Gaianixx社の資金調達に参画させていただきましたこと大変嬉しく思います。同社のコア技術である多能性®中間膜は化合物半導体業界の悲願である単結晶化を実現し、10数兆円を超える化合物半導体市場のプラットフォーム技術となる可能性を秘めており、創業期より伴走させていただく中でその実現性は日々高まっていると感じております。長年の基礎研究と量産技術開発に裏付けられた技術力と半導体事業立上げ経験豊富な人材が集結する同社の人材力に、私共Vertex Groupが有するグローバルエコシステムを融合させることでGaianixx社の事業拡大と化合物半導体市場の革新に貢献してまいります。」
黒川 尚徳
General Partner
Vertex Ventures Japan
株式会社Gaianixxについて
株式会社Gaianixxは「多能性®中間膜で世界をリノベートする」ことをミッションに、多能性®中間膜およびエピタキシャルの研究開発・製造・販売を行う東京大学発のテクノロジーベンチャーです。設立は2021年11月、本社は東京大学（東京都文京区）。代表取締役社長CEOは中尾健人氏。